副教授

謝昌志 專案專業技術人員(副教授級)

謝昌志

Email

changjyh@must.edu.tw

電話

+886-3-5593142 # 1366

研究室

逢喜樓219

學歷

國立清華大學 工學院化學工程研究所博士班


經歷

[業界經歷]
1. 台灣積體電路製造公司TSMC 光罩&研發處 經理 2002~2019
2. 聯華電子公司UMC 研發處 正工程師 1997~2002
3. 華邦電子公司Winbond 研發處 資深工程師 1996~1997
[教學經歷]
1. 明新科技大學 半導體與光電科技系 專技副教授 2023.8~迄今
2. 明新科技大學 半導體與光電科技系 助理教授 2023.2~2023.7
3. 明新科技大學 半導體學院 兼任助理教授 2021.2~2023.1
4. 國立清華大學 化學工程系 兼任助理教授 2021.8~2023.1


研究興趣

微影與光罩製造技術、半導體巨量資料處理與應用、半導體良率提升整體解決技術


專利

  1.     Patents (美國,台灣,大陸):

 

 

USA美國

  1. 1.Multiple-patterning photolithographic mask and method,” US9513552, 2016 Dec., 2015-2035.
  2. 2.Multiple-patterning photolithographic mask and method,” US8986911, 2015 Mar., 2012-2032.
  3. 3.Lithography performance check methods and apparatus,” US8650511, 2014 Feb., 2010-2030.
  4. 4.Optical proximity correction method,” US7297450, 2007 Nov., 2006-2026.
  5. 5.Optical proximity correction method,” US7063923, 2006 Jun., 2004-2024.
  6. 6.Correcting the polygon feature pattern with an optical proximity correction method,” US6767679, 2004 Jul., 2002-2022.
  7. 7.Optical mask correction method,” US6638664, 2003 Oct., 2001-2021.
  8. 8.Ionic conducting polymer electrolytes based on a side-chain liquid crystalline polymer,” US5091274, 1992 Feb., 1991-2011.

 

ROC台灣

  1. 9.An Optical Proximity Correction Method,” ROC, TWI290338, 2007 Nov. 2007-2022.
  2. 10.Correcting the Polygon Feature Pattern with an Optical Proximity Correction Method,” ROC, TWI244678, 2005 Dec., 2005-2021.
  3. 11.Method Of Correcting Optical Proximity Effects,” ROC, TWI230877, 2005 Apr. 2005-2021.
  4. 12.Correction method of photomask pattern,” ROC, TW485271, 2002 Aug., 2002-2021.
  5. 13.Ionic conducting polymer electrolytes based on a side-chain liquid crystalline polymer,” ROC, TWI66831, 1991 Dec., 1991-2011.

 

China大陸

  1. 14.Method for modifying characteristic pattern of regular polygon mask by use optical proximity effect,” China, CN1285967, 2006 Nov., 2002-2022.
  2. 15.Optical approaching correcting method,” China, CN1225678, 2005 Nov., 2002-2022.
  3. 16.Mask-pattern correction method,” China, CN1190708, 2005 Feb., 2002-2022.

期刊

研討會

課程

 

半導體產業概論、半導體製造技術、奈米材料

 

 

附圖

年份 計畫類型 標題
2023 民間企業產學計畫案(私人企業或法人機構之案件) 黃光微影製程能力優化計畫
年份 標題
2023 產學合作經驗分享及教師進行產業研習或研究說明